纳米级平板涂刮设备

产品简介

Nano BC-18 刮涂设备（Blade coating）是针对有机电子学领域（包括有机/钙钛矿太阳能电池、有机场效应晶体管、有机发光二极管等），光学薄膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）制造等，而设计开发的一款具有自主知识产权的大面积专业制膜设备。
相比市面上传统应用于油墨/浆料等材料的涂布设备，该款设备可以从多个维度对薄膜沉积进行调控，因此适用于制备厚度从几纳米到微米级的薄膜。同时配备完整且精密的控制系统以及原位监控系统，操作便捷且人性化，工艺摸索简易可传承，可全方位帮助用户得到理想的最佳膜厚。

产品参数

最大基片尺寸：                                                  210*210mm

基台平整度：                                                     <2um

运动机构：                                                          气浮导轨结合直线伺服

刮刀：                                                                  有效最大外宽MAX220mm

刮刀平整度：                                                      2um

涂布刀头（风刀刮刀一体式）升降分辨率：0.001mm

涂布刀头（风刀刮刀一体式）升降速度：    0.01mm/s-15mm/s

涂布刀头（风刀刮刀一体式）移动分辨率：0.001mm

涂布刀头（风刀刮刀一体式）移动速度：    1mm/s-100mm/s

涂布刀头（风刀刮刀一体式）与平台平行度 ：<5um

涂布行走速度均匀性：                                     小于0.5%（50mm/s）

人机交互系统：                                                  外置PC控制系统

闪蒸系统：                                                          标配闪蒸系统，风刀系统可选

尺寸：                                                                   800mm（W）*700mm（D）*700mm（H

工艺验证

·2英寸超薄有机Dif-TES-ADT膜
·平均厚度4.62 nm
·表面覆盖率100%
·表面粗糙度1.5 nm
·条件：刮涂速度1 mm/s，刮刀角度30°，温度60℃

苏州大学：Nanoscale Horiz. 2020, DOI: 10.1039/d0nh00096e