F20薄膜厚度测量仪

先进的薄膜厚度测量系统
使用 F20 高级频谱反射测量系统，我们能轻松的实现对膜层厚度和光学常数( n 和 k 值)的测量。通过对膜层顶部、底部反射光谱进行分析，数秒内我们即可得到膜层的厚度、折射率和消光系数。
通过内置的独立软件和 USB 接口，能够很容易的把 F20 安装在任何的 Windows 电脑平台上。健全的软件材料库( 100 多种材料)，极大的满足了对各种不同膜层结构测量的需要，包括对单层、多层或独立膜层的测量。透过测量样品的光学常数或导入已存在的咨询，能够在材料库内快速的增加新材料。

可测样品膜层

基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。这包括几乎所有的电介质与半导体材料，例如：
氧化硅、光刻胶、多晶硅、
氮化硅、聚合物、非晶硅、
类金刚石 DLC、聚酰亚胺、硅