清洗机/去胶机/刻蚀机-TDW-C-L1200/800系列

产品特色
·适用于4、6、8、12英寸硅片、化合物、玻璃、蓝宝石等基片WET处理
·毛刷Brush清洗、兆声波、高压水，药液、EUV等清洗功能
·去胶设备（lift off）：高压药液去胶，浸泡去胶， 超声（兆声波）波清洗
·刻蚀设备采用：多液体分离回收结构、刻蚀液精确温控单元
·模块化的单元便于维护
·图形化的人机交互界面