双光路激光划线设备

本设备为薄膜太阳能专用试验线,采用双光路激光,对薄膜太阳能电池及组件进行P1,P2,P3激光划刻。

产品特点

  • 碲化镉、钙钛矿、OMeTAD、Perovskite、SnO2、C60、PCBM、NIOx等不同材质镀层
  • 太阳能薄膜电池工艺验证试产线、各大高校、科研院所及初创公司
  • 设备结构紧凑、良好的兼容性
  • 双光路设计结构&多加工幅面,满足定制化要求
  • 设备运动机构机能稳定、响应快速
  • 精度高、使用接口友好,维护便利

技术参数

刻蚀划线

  • 划线工作头数量    2个
  • 刻划方向                垂直进出料方向
  • 子电池间距            4-10mm±0.01mm
  • 玻璃翘曲度            ≤0.5mm
  • 最大刻线速度        1500mm/s
  • 刻蚀两侧电阻        ≥20MΩ
  • 刻蚀要求               避免因熔化产生的边缘火山口形貌效应、崩边和热影响区
  • 除尘方式               激光加工时,跟随吸尘
  • 线宽                        20±5um(可定制)
  • 平行度                    ≤±10um/m
  • 热影响                    ≤5um(单侧)
  • 刻蚀深度                500-800nm(常规玻璃厚度3.2mm)

最小聚焦光斑

  • 激光器功率                 ≥20W
  • 激光器寿命               >20000h
  • 激光器类型               纳秒/皮秒/飞秒绿光;纳秒/皮秒/飞秒紫外(可定制)
  • 最小聚焦光斑           20um
  • 激光器功率              ≥30W
  • 激光器寿命              >20000h
  • 设备稼动率             ≥98%
  • 不定时维护时间     <1%
  • 设备尺寸                 1400x1400x2000mm

运动系统

  • 直线度                    ±10umm/m
  • 最大速度                1500mm/s
  • 最大加速度            1.5g

 

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